ハイブリッド株式会社

機能性微細構造材料のミクロ領域に熱移動を阻害する要因が存在すると材料、素子の性能低下を招きます。
例えば超高温での傾斜機能材料の特性の劣化、半導体レーザの出力低下、半導体素子の動作異常、薄膜の密着性低下、放熱性の悪化等。

上記の様なミクロ領域の熱移動を阻害する要因を解析する装置は存在しませんでした。
従来の熱物性測定装置では難しいとされていたミクロンオーダでの熱物性値分布を非接触で測定出来ます。

非接触で薄膜　200nm〜数万nmの測定可能
スポット径　３μｍ〜７μｍにて深さを変えて測定可能
鏡面に研磨できMoスパッタ可能であればほとんどの物質の測定が出来ます。
金属であればMoスパッタがなくとも有意差を測定できます。

例）　半導体レーザー

半導体レーザーは非常に小さな領域で大きな熱を発生します。
特にDVD-R/W用のレーザーでは高速書き込みのために高出力
が必要となっています。
素子の寿命と出力を向上させるためには放熱性が重要です。

サーマルマイクロスコープにより台の熱浸透率を測定
チップと台の界面に熱の障害、すなわち熱浸透率が低い領域を検出
この様な微小領域における熱的性質を測定できる装置はこの装置以外ありません。
このようなデータは半導体レーザーの出力および寿命の改善に役立ちます。

サーマルマイクロスコープによる解析結果